手機真空鍍膜機均勻性

2018-01-05  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:250

  手機真空鍍膜機均勻性,蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沈降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

  一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。

  厚度均勻性主要取決于:

  1。基片材料與靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面溫度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

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