手機真空鍍膜機晶向均勻性

2017-12-12  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:268

  手機真空鍍膜機晶向均勻性,蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

  1。晶格匹配度

  2。 基片温度

  3。蒸發速率

  濺射鍍膜又分爲很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成爲主要參數之一。

  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因爲是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

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