納米鍍膜機厚度均勻性分類

2017-12-04  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:227

  納米鍍膜機厚度均勻性分類,真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沈積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

  主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。

  一、對于蒸發鍍膜:

  一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。

  厚度均勻性主要取決于:

  1。基片材料與靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面溫度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

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