耐铠斯鍍膜機晶向均勻性

2017-11-23  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:279

  耐铠斯鍍膜機晶向均勻性有哪些?鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沈積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

  1。晶格匹配度

  2。 基片温度

  3。蒸發速率

  濺射鍍膜又分爲很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成爲主要參數之一。

  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因爲是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

關鍵詞: 耐铠斯鍍膜機           

  公司主业务专营:手机防水鍍膜機,手机真空鍍膜機,鍍膜機,纳米鍍膜機,真空纳米鍍膜機,手機納米液,防水納米液识别手机防水镀膜骗局,纳米镀膜骗局

  聯系我們,0769-83008105   13310825688  兴族纳米科技欢迎您的到访 


CopyRight ? 版权所有: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 技術支持:魔站 網站地圖 XML


掃一掃訪問移動端