真空納米鍍膜機主要分類有哪些

2017-10-31  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:282

  真空納米鍍膜機主要分類有哪些?真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沈積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

  一、對于蒸發鍍膜:

  一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。

  厚度均勻性主要取決于:

  1。基片材料與靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面溫度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

  組分均勻性:

  蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。

  晶向均勻性:

  1。晶格匹配度

  2。 基片温度

  3。蒸發速率

  濺射鍍膜又分爲很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成爲主要參數之一。

  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因爲是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

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