手機真空鍍膜機|磁控濺射鍍膜設備的主要用途

2019-01-15  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:60

  手機真空鍍膜機|磁控濺射鍍膜設備的主要用途

  (1)各種功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低溫沈積氮化矽減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。

  (2)裝飾領域的應用,如各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼,鼠標等。

  (3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

  (4)化學氣相沈積(MOCVD)生長困難及不適用的材料薄膜沈積,而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

  (5) 在光学领域:中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

  (6)在機械加工行業中,表面功能膜、超硬膜,自潤滑薄膜的表面沈積技術自問世以來得到長足發展,能有效的提高表面硬度、複合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能,從而大幅度地提高塗層産品的使用壽命。

  磁控濺射除上述已被大量應用的領域,還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。


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