手機真空鍍膜機均勻性能

2018-08-31  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:185

  手機真空鍍膜機均勻性,真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延

  1。基片材料與靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面溫度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

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