手機真空防水鍍膜機的化學成分

2018-07-25  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:169

  手機真空防水鍍膜機的化學成分,蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沈降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

  1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

  2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

  3.晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题

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