納米鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜優勢所在鍍膜技能商品技能特色

2018-05-28  來自: 東莞市興族(納米科技)實業有限公司 浏覽次數:137

  納米鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜優勢所在鍍膜技能商品技能特色

  据调查显示,对于沉积速率,納米鍍膜機技术中的磁控溅射镀膜运用效果很好。有项研究就是对平衡磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜进行各种对比。在这两者之前,对其成膜的沉积速率的不同作出了实验研究。

  在实验中,通过是平衡磁控溅射的基础上增加附加的线圈来控制磁场的变化,形成非平衡磁控溅射条件,这种附加线圈可以改变磁场电流,调整在整个靶材表面所存 在的磁场状况,从而使其产生的离子密度更高,在研究数据中显示,当离子密度提高,成膜的沉积速率也相应提高,通过这种调整电流的方式,可以提高磁控溅射镀 膜时的沉积速率。

  把靶材與基底之間的距離改變,當距離越大,沈積速率就越低,相反就越高,所以要設定好靶材與基底的距離,距離大了,離子隨著磁場所産生的電流沈積到基底上的時間就長了,在此時間內受到真空鍍膜設備中的氣體散射的影響就多了,離子密度相對降低,距離短就受影響少,離子密度就高,但不是越短越好的,太短距離就相對減少成膜的面積,所以這個距離需要拿捏好,可以提高磁控濺射鍍膜時的沈積速率。從上述的表述我們可以知道,磁控濺射鍍膜機的技術還是十分有效的

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